產品簡介

HMDS真空烘箱/非標定制半導體業真空烘干箱。承接非標定制。HMDS真空干燥箱/三清儀器定制

HMDS真空烘箱產品性能特點：

HMDS真空干燥箱/三清儀器定制

1）設備外殼采用醫用級不銹鋼316L不銹鋼材質制作，內膽為不銹鋼316L材料制成；采用C型不銹鋼加熱管,均勻分布在內膽外壁，內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置；采用鋼化、防彈雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內物品實驗情況。
2）箱門閉合松緊能調節，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內保持高真空度。
3） 采用微電腦PID控制,系統具有自動控溫,定時,超溫報警等,采用LCD液晶顯示,觸摸式按鈕,簡單易用,性能穩定，智能化觸摸屏控制系統配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。

5）HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計，使真空箱密封性能*，確保HMDS氣體無外漏顧慮。
6）整個系統采用優質醫用級316L不銹鋼材料制作，無發塵材料，適用百級光刻間凈化環境。

HMDS真空干燥箱/三清儀器定制

HMDS系列預處理系統的原理：
HMDS預處理系統通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

HMDS系列預處理系統的一般工作流程：
首先確定烘箱工作溫度。典型的預處理程序為：打開真空泵抽真空，待腔內真牢度達到某一高真空度后，開始充入氮氣，充到某低真空度后，再次進行抽真空、充入氮氣的過程，到達設定的充入氮氣次數后，開始保持一段時間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空，充入HMDS氣體，在到達設定時間后，停止充入HMDS藥液，進入保持階段，使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后，再次開始抽真空。充入氮氣，完成整個作業過程。HMDS與硅片反應機理如圖：首先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS與表面的OH一反應，在硅片表而生成硅醚，消除氫鍵作，從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續到空間位阻（*基硅烷基較大）阻止其進一步反應。

定制：